Kinesiska forskare har i hemlighet utvecklat en prototyp av en EUV-litografimaskin, som används för tillverkning av avancerade AI- och militär-chips i västvärlden. Enligt Reuters är detta ett tecken på att Kina har kommit närmare ett teknologiskt oberoende än vad som tidigare har trotts.
Prototypen, som stod klar i Shenzhen 2025, upptar nästan hela fabriksbyggnaden. Den har konstruerats av tidigare ingenjörer från ASML, vilka har baklängeskonstruerat den nederländska teknik som tidigare varit exklusiv för västvärlden.
Maskinen är funktionell och kan generera det extrema ultravioletta ljus som krävs för chipptillverkningen. Dock har den ännu inte producerat fungerande chips. Prototypen saknar fortfarande den noggrannhet som krävs för de mest avancerade optiska systemen.
Kinas regering har som mål att uppnå full kapacitet senast 2028, men källor hos Reuters bedömer att 2030 är en mer realistisk tidsram. Kinesiska myndigheter har inte kommenterat dessa uppgifter.
